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에프알디는 반도체, Solar, 디스플레이, LED용 특수가스 제조에 특화된 기업 입니다.

No품명순도용도특징
1Tetraethylorthosilicate (TEOS)99.999%SiO2 증착(CVD)열적 안정성, 균일한 산화막 형성
2Tris(dimethylamino)silane (TDMAS)99.999%SiN 증착(ALD)낮은 온도 증착 가능, 플라즈마 ALD에 적합
3Trimethylaluminum (TMA)99.9999%Al2O3 증착(ALD)높은 반응성, 표면 반응 우수
4Titanium tetrachloride (TiCl4)99.999%TiN 증착(CVD)높은 증착률, 저온 공정 호환
5Hafnium tetrachloride (HfCl4)99.999%HfO2 증착(ALD)고유전막(HKMG) 소재, 높은 유전상수
6Diethylzinc (DEZ)99.999%ZnO 증착(ALD)p-type 가능, 투명전도막 재료
7Trimethylphosphite (TMP)99.999%도핑액상 P 소스, 핀펫/3D 낸드용
8Cobalt carbonyl (Co2(CO)8)99.99%Co 금속 배선증기압 높고, 균일한 증착 가능
9Hafnium tetrachloride (HfCl4)99.999%HfO2 증착(ALD)High-K 게이트 유전체, 유전상수 ≈ 25
10Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium (TEMAH)99.999%HfO2 증착(ALD)높은 증착 균일성, 3D NAND 적합
11Zirconium tert-butoxide (ZTB)99.999%ZrO2 증착(ALD)High-K 재료, 열 안정성 우수
12Lanthanum tris(N,N′-diisopropylformamidinate) (La-FAMD)99.999%La2O3 증착(ALD)High-K + 낮은 누설 전류
13Aluminum sec-butoxide (ASB)99.999%Al2O3 증착(ALD)High-K, 게이트 절연막용

제품정보