특수가스
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에프알디는 반도체, Solar, 디스플레이, LED용 특수가스 제조에 특화된 기업 입니다.
| 가스명 | 화학식 | 순도 | 주요 공정 용도 | 특징/비고 |
| 염화수소 | HCL | 5N | 식각 | 웨이퍼 표면 불순물 제거 |
| 염소 | Cl₂ | 5N | 금속 식각 (Al, W 등) | 강한 식각력 |
| 플루오린 | F₂ | 5N | 고속 식각 | 독성·폭발성 매우 강함 |
| 삼불화질소 | NF₃ | 4N | CVD 챔버 클리닝 | 플라즈마 분해 후 F 발생 |
| 육불화황 | SF₆ | 5N | 실리콘 식각 | 플라즈마 발생 시 반응성 ↑ |
| 사불화탄소 | CF₄ | 5N | 산화막 식각 | C-F 결합 → 플루오린 발생 |
| 헥사플루오로에탄 | C₂F₆ | 5N | 산화막 및 질화막 식각 | 다층막 식각 |
| 삼플루오로메탄 | CHF₃ | 5N | 식각 속도 조절 | 선택비 제어 가능 |
| 옥타플루오로사이클로부탄 | C₄F₈ | 4N5 | LSI 패턴 식각 | 플루오로카본계 식각가스 |
| 실란 | SiH₄ | 6N | Si, SiO₂ 박막 증착 | 고온에서 분해, 연소성 높음 |
| 디실란 | Si₂H₆ | 5N | Si 박막 증착 | 고순도 Si 공급원 |
| 삼염화붕소 | BCl₃ | 5N | 도핑용 B 소스 | 확산 공정에도 사용 |
| 암모니아 | NH₃ | 7N | 질화막 형성용 | Si₃N₄ 증착 |
| 포스핀 | PH₃ | 6N | P 도핑 | 고독성, 공정 도핑 가스 |
| 아르신 | AsH₃ | 6N | As 도핑 | 강독성, 도핑 전용 |
| BF₃ | BF₃ | 6N | B 도핑 | 이온 주입 도핑용 |
| 디보란 | B₂H₆ | 5N | B 도핑 | 고온 반응 가능 |
| 삼염화붕소 | BCl₃ | 5N | 도핑 및 식각 | 다목적 사용 |
| 헬륨 | He | 5N, 6N | 냉각, 캐리어 가스 | 고가, 고순도 필요 |
| 아르곤 | Ar | 5N | 챔버 퍼징, 캐리어 | 불활성, 용이한 취급 |
| 질소 | N₂ | 5N | 퍼지, 보호가스 | 공정 내 수분 차단 |
| 수소 | H₂ | 5N | 환원 분위기 조성 | 폭발성 주의 필요 |
| 삼불화질소 | NF₃ | 4N | CVD 챔버 클리닝 | 플라즈마 분해 후 F 방출 |
| 사염화규소 | SiCl₄ | 6N | SiO₂ 원료, 유리 제조 | 고순도 필요 |
| 디클로로실란 | SiH₂Cl₂ | 4N | LPCVD 증착 | 고순도 Si 공급원 |
| 불화수소 | HF | 5N | 습식 식각 | 산화막 제거용 |
| 저메인 | GeH₄ | 5N | 세척, 식각, 증착 | SIGe 박막 형성 |
| 프로판 | C3H8 | 5N | 식각 | Sic 원료 |
| 메탄 | CH4 | 5N | 식각 | |
| 육불화텅스텐 | WF6 | 5N | 증착 | CVD 텅스텐 박막 |
| 중수소 | D2 | 5N | 어닐링 | |
| 브롬화수소 | HBr | 5N | 기상 식각 | |
| 에틸렌 | C2H4 | 5N |
