특수가스

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특수가스

에프알디는 반도체, Solar, 디스플레이, LED용 특수가스 제조에 특화된 기업 입니다.

GeH4 저메인

설명
SiCl4  반도체 공정중 챔버의 잔류 Flourine Cleaning 및 식각, 실리카 제조를 위한 원재료로 사용 됩니다.
용도
Geh4는 무색의 독성이 강한 인화성 비부식성 가스입니다. 게르마네인의 열 안정성은 좋지 않고, 게르마네인의 자가촉매작용이 강하며, 일단 분해가 금속 피복막을 형성하면 빠르게 분해되므로 분해 폭발 위험이 매우 높습니다.
순도
99.999%
CAS
7782-65-2
패키지
47L 실린더
제품 상세정보









ProductSpecification
PurityPackageValveFilling Quantity
GeH45N47LDISS6322.2KG

ContaminantsSpecifications
H2≤1.0 ppm
N2≤1.0 ppm
O2+Ar≤0.5 ppm
CO≤1.0 ppm
THC≤1.0 ppm
CO2≤.0 ppm
Ge2H6≤2.0 ppm
Ge3H8≤1.0 ppm
Chlorogermanes≤5.0 ppm
Germoxanes≤5.0 ppm
H2O≤1.0 ppm



관리자 관리자 · 2023-11-09 14:25 · 조회 172